密閉回路式流動層乾燥または冷却。
窒素ガスは密閉された流動床内を循環し、原料を乾燥または冷却する。プロセスガスは固体分離および溶媒凝縮工程を経て、再加熱または冷却された後、再び流動床に戻される。

| モデル | 乾燥能力(kg/時) | ベッド面積(m²) | ファン電力(kW) | 吸気温度(℃) | 循環培地 | 溶媒回収率(%) |
| XFG-10 | 5~20 | 0.25 | 7.5 | 室温-300 | 窒素 | 95~99 |
| XFG-20 | 10~40 | 0.5 | 11 | 室温-300 | 窒素 | 95~99 |
| XFG-30 | 20~80 | 1 | 15 | 室温-300 | 窒素 | 95~99 |
| XFG-50 | 40~160 | 2 | 30 | 室温-300 | 窒素 | 95~99 |
| XFG-80 | 60~240 | 3 | 75 | 室温-300 | 窒素 | 95~99 |
| XFG-100 | 80~320 | 4 | 90 | 室温-300 | 窒素 | 95~99 |